国产光刻机工厂落地雄安中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司官微9月18日辟谣称，该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

文章转载自：界面新闻网 非本站原创

　　免责声明：本文由用户上传，与本网站立场无关。财经信息仅供读者参考，并不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。 如有侵权请联系删除！